일본 주간지 슈칸신초 인터넷판 데일리신초는 최근 발간호에서 ‘인재 유출로

중국, 한국에 기술 새나갔다’는 기사를 게재했다. 해당 기사는 NEC와 히타치,

후지쓰, 도시바 등 자국 반도체 업계가 몰락한 이유를 조명했다.

데일리신초는 그런 영광의 시대가 쇠락으로 돌아선 계기로 우선은 1986년 미·일

반도체 갈등 국면에서 미국에 완패한 것을 들었다.

기사는 “당시 일본 정부가 미국의 ‘외국계 반도체 시장 점유율 20% 이상’ 요구를

대책없이 받아들임으로써 일본 기업이 한국 삼성전자 반도체를 대신 판매하는

비정상적인 시대가 10년이나 지속됐다”고 전했다.

IT 애널리스트 후카다 모에는 “미·일 반도체협정이 체결되자 마치 기다리기라도

했다는 듯 한국, 대만 업체들이 일본 기업에 불이익을 피하려면 우리에게 기술 이전을

하라고 제안했다. 일본 기업들은 이를 허무하게 수용했다”고 말했다

데일리신초는 1990년대 중반부터 활발해진 한국, 대만 등으로의 인력 유출이 태평양

전쟁 패전 후의 폐허와 같은 오늘날의 참상을 가져왔다고 했다

현재 일본 기업 중 반도체 부문 톱 10에 진입한 기업은 한 곳도 없다.

키옥시아(전 도시바 메모리)가 간신히 11위에 올라 있다.

기사는 삼성전자에서 일한 적 있는 일본인 반도체 전문가의 말을 인용했다.

기사에 따르면 그는 2년간 연봉 3000만엔(약 3억1000만원·세금 제외)

조건으로 삼성전자에 스카웃 됐다.

당시 다니던 일본 기업에서 급여를 20% 삭감 당한 상태라 작심하고 한국으로

갔다고 소개했다.

그는 “1990년대 중반부터 많은 일본인 기술자들이 주말마다 이른바

‘토귀월래’(土歸月來·월요일에 갔다가 월요일에 돌아온다)의 아르바이트

형식으로 한국과 대만에 일본 반도체 기술을 전수하러 나갔다”고도 했다.

이어 “일본 기업은 다른 나라에 비해 회사 기밀정보 관리도 허술해서 나 자신을

포함해 많은 일본인 기술자들이 우리 반도체 핵심기술을 한국에 빼돌리는 것을

눈으로 직접 볼 수 있었다”고 전했다.

P3라인은 클린룸(먼지·세균이 없는 생산시설) 규모만 축구장 면적의 25개 크기로,

현존하는 단일 반도체 라인 가운데 세계 최대 규모다.

이곳에서는 극자외선(EUV) 기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 로직 제품이

양산될 예정이다.

업계 관계자는 "작년 말 P4라인 준비가 시작된 것으로 안다"고 말했다.

올해 본격적으로 공사가 시작되면 2024년께 완공될 것으로 보인다.

다만 삼성전자 측은 "P4라인에 대한 구체적인 계획은 공개가 어렵고,

아직 정해진 바도 없다"는 입장이다.

미국 텍사스주 테일러시의 20조원 규모 파운드리(위탁생산) 공장은 2024년

하반기 생산을 목표로 올해 상반기에 착공한다.

대만 시장조사기관 트렌드포스에 따르면 작년 3분기 기준 파운드리 시장

매출 점유율은 TSMC가 53.1%로 압도적 1위였고, 2위인 삼성전자는 17.1%에

그쳤다.

삼성전자는 차세대 3나노 이하 공정에서 기술력을 앞세워 TSMC를 추월한다는

계획이다.

삼성전자는 올해 상반기에 차세대 트랜지스터 구조 GAA(Gate-All-Around)

기술을 적용한 3나노 1세대 파운드리 제품을, 2023년에는 3나노 2세대 제품

양산을 각각 시작할 계획이다.

GAA는 기존 핀펫(FinFET) 기술보다 칩 면적은 줄이고 소비전력은 감소시키면서도

성능을 높인 신기술로, TSMC는 2나노부터 GAA 기술을 적용할 것으로 알려졌다