ㅇ 이는 지난 7월 일본의 수출규제 이후 차질을 빚고 있는 극자외선(EUV)용
포토레지스트(PR) 수급에 대한 대응 방안을 찾지 못하고 있기 때문으로 해석됩니다.
ㅇ 우리 정부가 한일 군사정보보호협정(GSOMIA·지소미아) 종료를 유예하는 등
유화적 제스처를 보냈음에도 수출심사우대국 목록에서 한국을 배제하는 일본의
방침에는 변함이 없어 수급차질 우려가 장기화할 것으로 우려되고 있습니다.
ㅇ 반도체 업체들은 EUV용 포토레지스트를 확보하기 위해 벨기에 등으로 수급처를
다양화하고 있지만 불화수소와 달리 국산화가 어려운 대표 소재로 꼽혀 안정적
공급망 확보가 절실하다고 밝혔습니다.
ㅇ 27일 한국과학기술정보연구원(KISTI)에 따르면 지난해 한국 기업의 반도체
제조용 포토레지스트의 일본 의존도는 93.2%이며 EUV용 포토레지스트 또한 비슷한
수준인 것으로 전해졌습니다.
ㅇ 관세청에 따르면 벨기에에서 수입한 포토레지스트는 올 3·4분기 459만달러
수준으로 직전 분기(약 25만달러) 대비 20배 가까이 늘었다며, 이는 대부분이 EUV용
포토레지스트다로 반도체 업체 관계자는 “EUV용 포토레지스트는 일본이 수출심사
강화 요건으로 내세운 군사용으로 전용될 가능성도 없고 수입 자체도 큰 문제가 없다”고
밝혔습니다.
ㅇ 그러나 문제는 EUV 공정이 본격화되는 몇 년 뒤의 얘기로 시장조사기관인
IC인사이츠 보고서에 따르면 10나노 미만 반도체 생산 규모는 올해 웨이퍼 기준
월 105만장에서 2023년에는 월 627만장으로 확대될 것으로 전망되고 같은 기간
10나노 미만 반도체 공정 점유율은 5%에서 25%로 늘어난다고 예상하고 있습니다.
ㅇ 업계 또한 수년 뒤 10나노 이하의 노광공정 중 7나노 이하는 EUV가 대부분을
차지할 것으로 보고 있습니다.
ㅇ 이와 같이 EUV 공정 확대는 자연스레 EUV용 포토레지스트 사용 확대로 이어지게
되지만, 업계에서는 관련 제품 국산화가 수년 뒤에도 불가능할 것으로 보고 있어
일본 외에 수입선 다변화를 통해 대응한다는 방침이지만 지금껏 일본 거래선들과
EUV 공정에 투입되는 포토레지스트에 대해 최적화 작업을 진행한 만큼 수입선
다변화가 자칫 수율 저하로 이어질 수 있다고 전했습니다.
ㅇ 이렇게 포토레지스트라는 하나의 변수가 공정 전체에 미치는 영향이 상당히
크다고 밝혔습니다.
ㅇ 그러나 글로벌 파운드리 시장을 과점하고 있는 대만의 TSMC로서는 이 같은
상황이 호재라고 밝혔습니다. TSMC는 EUV 공정 도입 자체는 삼성전자보다 늦었지만
ASML이 독점 생산하는 EUV 노광장비를 최근 몇 달 새 싹쓸이하며 틈을 주지 않을
기세로 EUV용 포토레지스트 수급과 관련한 시장의 우려도 없다고 밝혔습니다.
ㅇ 팹리스 업계에서는 TSMC의 파운드리 독점을 견제해야 한다는 흐름과 종합반도체기업
(IDM:[Integrated Device Manufacturer )이자 스마트폰 점유율 1위인 삼성전자의
파운드리 진출을 견제해야 한다는 흐름이 엇갈리지만 TSMC로의 쏠림이 심해지고
있다고 전했습니다.
ㅇ 시장조사기관인 트렌드포스에 따르면 TSMC의 올 3·4분기 파운드리 시장 점유율은
연초 대비 2.4%포인트 상승한 50.5%를 기록한 반면 삼성전자는 같은 기간 0.6%포인트
하락한 18.5%를 기록했으며, TSMC는 올 들어 주가 상승률만 40%에 달하며 연내 투자액도
150억달러까지 늘려 격차를 확대할 방침인 것으로 전해졌습니다.
□ 다음은 SK하이닉스가 일본의 소재 수출 규제 대상에 올랐던 '극자외선(EUV)용
포토레지스트'를 생산하는 미국의 '인프리아(Inpria)'에 투자했다고 밝힌 소식입니다.
ㅇ 인프리아는 일본의 소재 수출 규제 당시 JSR, 신예츠의 대안처로 급부상한
바 있는 스타트업으로 초미세공정에 강한 비화학물질 기반 신개념 레지스트
기술을 보유하고 있어 EUV 공정 도입을 준비하고 있는 SK하이닉스가 인프리아와
협력할 가능성에 무게가 실린다고 전해졌습니다.
ㅇ 27일 관련업계에 따르면 SK하이닉스는 일본의 반도체, 디스플레이 핵심
소재 수출 규제가 한창이던 지난 8월 미국의 EUV용 포토레지스트 개발 기업인
인프리아에 투자를 진행해 왔는데, 인프리아가 발행한 전환사채(CB)에
SK하이닉스가 12억 원 가량 투자함으로써, 향후 전환사채를 보통주로 전환해
지분을 보유할 수 있게 되었다고 밝혔습니다.
ㅇ SK하이닉스가 인프리아의 포토레지스트를 어느 시점부터 활용할지는
현재로선 알 수 없지만 앞으로 초미세공정의 중요도가 갈수록 커진다는 점을
감안해 선제적 투자에 나선 것으로 풀이되고있습니다.
ㅇ 인프리아는 일본의 주요 포토레지스트 기업인 JSR, 신예츠, TOK 등과 달리
폴리머를 사용하지 않는 비화학 물질 기반 포토레지스트를 생산하는 대표주자로,
지금보다 훨씬 더 공정 난이도가 높은 7나노미터(nm) 미만 초미세공정 단계에서
경쟁력이 돋보인다고 밝혔습니다.
ㅇ 또한 인텔이나 반도체 장비업계 1위인 AMAT도 일찌감치 인프리아에
투자했으며, 일본의 JSR도 투자 관계를 맺고 있다고 밝혔습니다.
ㅇ 삼성전자는 지난 2017년 삼성벤처를 통해 인프리아에 초기 투자를 진행한
바 있으며, 이미 EUV 공정을 도입하고 있는 삼성전자는 일본의 소재 수출
규제로 인프리아와 같은 차세대 포토레지스트 소재기업을 새롭게 발굴하고
투자 및 사업 협력을 강화할 것으로 전망됩니다.
ㅇ SK하이닉스도 이번 인프리아 CB 투자에 이어 지속적으로 사업 협력과
지분 확대를 추진할 가능성이 점쳐지고 있습니다.
ㅇ 이런 인프라 투자에 대해 업계 관계자는 "일본의 소재 수출 규제 도발로
삼성전자와 SK하이닉스가 다양한 공급처 개발에 뛰어든 결과"라며 "일본의
규제가 사그러들었지만 결론적으론 자국 첨단소재 산업에 자충수를 두게
된 꼴"이라고 평했습니다.
□ 다음은 한양대가 국내 극자외선(EUV) 노광 기술 생태계 조성을 위한
산학협력포럼을 개최하고 이 행사에서 발족한 'EUV-IUCC(산학협력센터)'는
국내 EUV 기술이 발전할 수 있도록 다양한 기업을 연계하는 역할을 할 전망이라는
소식입나다.
ㅇ 27일 서울 한양대서 열린 이번 포럼에는 삼성전자, 네덜란드 노광기업 ASML,
원익IPS, 솔브레인, SK실트론, 메카로, 동우화인켐, 도쿄일렉트론 등 국내외 반도체
업체 20여곳과 대학, 연구소 관계자 등 100여명이 참석했으며, 이날 행사에서
새롭게 발족한 EUV-IUCC(Industry-University Cooperation Center)를 소개하고
이 EUV-IUCC는 국내 EUV 연구자들이 자발적으로 만든 모임으로 안진호 한양대
신소재공학부 교수가 센터장을 맡는다고 밝혔습니다.
ㅇ EUV-IUCC는 회원 기업에 다양한 혜택을 제공할 계획으로 삼성전자, ASML,
에프에스티, 에스앤에스텍, 이솔 등이 등록된 상태인데 구체적인 업무로 EUV 관련
▲기술 정보망 구축 ▲연구개발 및 사업화 ▲전문 인력 양성 등을 수행한다고 밝혔습니다.
ㅇ EUV-IUCC가 확보한 기술로는 EUV 마스크 및 펠리클 광학 검사 기술, 웨이퍼
열변형 특성 및 수명 예측, 방사광 기반 첨단 분석 EUV 레지스트 특성 평가 등이
있다고 밝혔습니다.
ㅇ EUV 노광 공정에서 ‘모양 자’ 역할을 하는 포토마스크 역시 EUV용은 5억원으로
가격이 높은데, 포토마스크를 보호하는 펠리클을 활용하면 비용 절감이 가능하지만,
EUV용은 개발단계로 EUV-IUCC는 이 같은 문제점을 기업과 협력해 해결하겠다고
밝혔습니다.
□ 다음은 내년도 낸드플래시 메모리 반도체시장에서 경쟁이 뜨겁게 달아오를
것으로 전망된다는 소식으로,
ㅇ 가격 측면에서는 낸드플래스 반도체가 D램보다 반등시점이 빠를 것으로 보이지만
주요 제조사들의 대규모 증설이 완료되고 후발업체들의 제품 경쟁력도 강화돼 시황
반등세가 제한적일 가능성도 제기되고 있다고 전해졌습니다.
ㅇ 27일 관련 업계에 따르면 글로벌 낸드플래시 업황 개선 시점이 임박하면서
중국 반도체 기업인 칭화유니그룹의 자회사인 양쯔메모리(YMTC)의 시장 점유율
확대 여부에 관심이 모아지고 있습니다.
- YMTC가 중국 정부의 재정지원과 내수시장을 바탕으로 기술력은 물론 시장
지배력을 빠르게 높일 가능성이 높다는 분석도 제기되고 있는데,
- 일각에선 YMTC가 내년 생산량을 늘려 시장점유율 5%까지 끌어올릴 것이란
관측도 나오고 있습니다.
