★ 오늘의 뉴스  Headline은  “EUV 장비, 우주선 제작보다 어려워…컨소시엄 필요”

하다는 기사의 제목을 꼽을 수 있겠습니다.

ㅇ 최근 안진호 한양대 신소재공학부 교수는  “EUV가 정착되려면 컨소시엄 형태 지원이 

필요하다”며 “개별 업체가 연구하기에는 진입 장벽이 높은 영역”이라고 강조했습니다.

ㅇ 극자외선(EUV) 기술 상용화로 반도체 공정 미세화에 속도가 붙은 가운데  비용 및 

기술적인 측면에서 해결해야 할 과제가 남아 있어 삼성전자, TSMC 외에 EUV 공정을 

도입한 업체가 없는 이유라고 설명했습니다.

ㅇ 기존 불화아르곤(ArF) 공정(193.5nm) 대비 14분의 1에 불과한 EUV는 빛의 파장이 

13.5나노미터(nm)로 더욱 미세한 회로 구현이 가능하다고 밝히고 붓이 얇아질수록 

섬세한 그림을 그릴 수 있는 것과 같은 원리라고 설명했습니다.

ㅇ 안 교수는 지난 1998년 EUV 노광기술 연구를 시작했지만, 비용부담이  워낙 막대하기 

때문에개별 투자는 쉽지 않다고 말했습니다.

ㅇ 현재 삼성전자의 EUV 도입으로 기업들의 관심이 높아졌지만, ASML이 공급하는 EUV 

노광장비는 1500억원에 달하며  특히, 노광 공정에서 ‘모양 자’ 역할을 하는 포토마스크는 

EUV용이 5억원으로 만만치 않은 가격으로 EUV 제품을 만들기 위한 테스트마저도 하기 

힘든 상황이라고 말했습니다.

ㅇ 또한, 기술적으로도 한계가 존재하는데, 한다. 안 교수는 “이전 공정에서 ArF을 도입할 

때와 ArF에서 EUV로 변경할 때 상황이 다르다며, 전자의 경우 대부분 문제를 예측할 수 

있었고,  기존 방법으로 해결 가능한 부분이었다”면 “EUV는 무엇이 문제인지 알아내기

조차 어려운 상태라고 설명하고 난이도가 다른 기술”로써 지구 상에 없는 파장이라고 

말했습니다.

ㅇ EUV는 X선, 감마선, 가시광선 등 현존하는 파장과 다른 존재로 “EUV는 태양광에서 

일부 나오지만, 특성상 지구에 있을 수 없다”며 “EUV는 모든 물질을 흡수하는 성질이 

있어 공기 중에 노출되면 없어지기 때문에 다루기 힘든 요인 중 하나다”라고 언급