★ 오늘의 뉴스 Headline은  ASML, 여전한 ‘EUV 효과’…1분기 영업익 5683억원 

소식을 꼽을 수 있겠습니다.(디지털데일리 김도현 기자)

ㅇ 네덜란드 ASML이 지난 1분기 실적을 공개했다. 지난해보다 실적이 개선, 코로나19 

     영향은 아직이다. 극자외선(EUV) 장비 일부 매출은 다음 분기로 넘어갔다.

ㅇ 16일 ASML은 2020년 1분기 매출액 24억4100만유로(약 3조2489억원), 영업이익 

      4억2700만유로(약 5683억원)를 기록했다고 밝혔다. 매출액과 영업이익은 각각 

     전년 동기 대비 9.5%, 27.8% 늘어난 수준이다.

ㅇ 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 “1분기에는 EUV 장비 4대를 선적했다. 

     이번 분기 예약 매출은 31억유로로, EUV 장비 11대가 포함된 수치”라며 “고객사의 

     EUV 수요가 여전하다는 의미”라고 설명했다.

ㅇ EUV 장비는 ASML이 독점으로 공급한다. 1대 당 1500억 이상에 달한다. 지난해 

    역대 최대 매출을 달성하는 데 큰 공헌을 했다. 

  - 나노 경쟁을 펼치는 삼성전자와 대만 TSMC가 주요 고객사다.  대다수가 반도체 

    위탁생산(파운드리)에서 활용 중이며, D램 라인에도 도입되기 시작했다.

  - 1분기 공급한 4대 중 2대는 2분기 매출로 잡힌다. 고객사 요청으로 공장인수테스트(FAT) 

    이전에 EUV 장비를 입고했기 때문이다. 매출은 고객사 공장에 장비 설치 완료 후 반영된다.
 
ㅇ 아직까지는 불화아르곤(ArF) 장비가 ASML의 최대 매출처다. 여전히 50% 이상을 

     차지하고 있다. 

  - 삼성전자, SK하이닉스 등의 낸드플래시 생산량이 늘어나면서, 불화크립톤(KrF) 장비도 

    비중이 높아졌다. 낸드는 D램만큼 미세화가 필요하지 않아, KrF 장비로 양산 가능하다.

ㅇ ASML은 코로나19 등 시장 불확실성으로 2분기 실적 전망을 제시하지 않았다. 

     베닝크 CEO는 “장비 수요에는 변화가 없고, 고객사의 취소나 연기도 없는 상황”

     이라면서도 “코로나19 위기로 세계 경제, 전자제품 수요, 장비 생산 및 부품 조달 등에 

     어떤 영향을 미칠지 예측하기 어렵다”고 말했다.

ㅇ 한편 ASML은 매년 EUV 장비 생산능력(CAPA)을 늘리고 있다. 

   - 지난 2018년 18대, 2019년 26대를 양산했다. 올해는 35대를 목표로 하고 있다. 

   - EUV 장비가 파운드리는 물론 D램 공정에도 적용되면서 EUV 장비 CAPA는 지속 상승할 

     것으로 보인다.

□ 다음은  美서 39년 전 태동한 EUV..韓 22년째 도전 지속 및 

세계 최고 韓 반도체 `EUV`…`소·부·장`은 100% 수입 의존 기사로 

(現 EUV노광기술산학협력센터장인 안진호 교수 인터뷰)기사 

요약입니다.(이데일리 양희동 기자)

  ◎  EUV 기술의 태동과 ASML의 성공 배경(기술개발 방식)

ㅇ 現 EUV노광기술산학협력센터 센터장인 한양대 안진호 교수와 인터뷰 내용

  - 극자외선(EUV) 노광기술은 지금으로부터 39년 전인 1981년 미국 NASA 

    제트추진연구소와 스탠퍼드대에서 장(長)파장 X선을 반사 원리를 이용해 

    이미징한 연구결과에서 출발했다고 밝힘

  - 이듬해인 1982년엔 일본 NTT의 기노시타 박사가 이를 이용한 축소투영 

    결과를 발표하면서 반도체 산업에서 EUV의 응용가능성이 인정받기 시작. 

  - 1980년대 후반부터는 공식적인 차세대 노광기술로써 미국 국립연구소를 

    중심으로 한 기초연구가 시작됐고, 

  - 본격적인 핵심기술 개발을 위해 미국과 일본, 유럽 등에서 경쟁과 협력이 

    이뤄짐.

ㅇ 하지만 EUV 노광기술이 실제 양산에 적용되기까지는 수많은 우여곡절과 

    함께 양산적용 가능성에 대한 회의론이 팽배했다. 

  - EUV는 지구 상에 존재하지 않아 인위적으로 만들어야 하는 까다로운 빛으로, 

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  - EUV는 단파장 특성으로 인해 당시 사용하고 있는 기술보다 훨씬 집적도가 

    높은 반도체 소자의 생산을 가능토록 했지만 모든 물질에 흡수돼 소멸하는 

    특성을 갖고 있어 기존 기술의 연장이 아닌 전혀 다른 원리를 이용한 노광, 

    검사장비와 새로운 소재, 부품의 개발이 필요했다. 

  - EUV를 통한 반도체 양산에 필수 장비인 노광기(웨이퍼에 패턴을 그리는 기계)도 

    1980년대에 개발이 시작됐다.

ㅇ 네덜란드 필립스의 조인트 벤처로 1980년대 초에 31명의 인원으로 시작한 

    ASML이란 회사는 노광기 분야의 절대 강자였던 일본의 니콘과 캐논보다 

    노광기 사업화가 늦었다. 

  - 그러나 기술 난이도가 높아지며 ASML의 ‘오픈이노베이션’(개방형 혁신) 

    전략이 2000년대 ‘알곤 플로라이드’ 및 ‘알곤 플로라이드 이머전’ 장비가 

    효과를 보면서 시장을 장악하기 시작해, 결국 EUV 노광장비 시장을 

    독점하게 됐다. 

  - 현재 판매되고 있는 제1세대 EUV 양산장비는 한 대당 약 2000억원 정도로 

    알려져 있으며, 연간 약 30대 정도를 생산하고 있지만 전 세계 수요에는 

    부족하다.

ㅇ 우리나라는 22년 전인 1998년 한양대에서 이뤄진 소규모 개인연구사업을 

    통한 EUV 관련 광학소재 연구가 시초다. 

  - 이어 2002년부터 시작한 산업자원부(현 산업통상자원부) 지원 ‘차세대 

    신기술 개발사업단’을 발족, 2011년까지 약 9년간 컨소시엄 형태로 대규모 

    사업을 진행했다. 

  - 이 사업에는 한양대를 중심으로 삼성전자, 동진쎄미켐, IMT 등의 기업과 

    포항가속기연구소, 성균관대, 부산대, 서울대 등이 참여했다. 

  - 또 이 사업을 통해 포항가속기 연구소에 EUV 연구개발 전용 빔 라인과 여러 

    실험 설비들을 우리 손으로 설계하고 제작하며 많은 시행착오를 겪었다. 

    이를 통해 축적한 경험들은 현재 우리나라가 세계 최초로 EUV 노광기술의 

    양산 적용을 이루는데 초석이 됐다.

ㅇ 국산 EUV 소재·부품 개발…성능 평가 장비도 부족

  - 국내 EUV 관련 소재·부품 개발 회사들의 가장 큰 애로사항은 자신들이 

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  - 실제로 EUV용 포토마스크 검사 장비는 1000억원 이상을 호가

    따라서 이런 검사·계측 장비를 개별 소재·부품 개발사가 구매하기는 

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  - 우리나라에서 EUV용 소·부·장의 전략적 산업 육성이 이뤄지지 않는다면 

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  - 일본산 PR과 마스크 그리고 일본·미국·독일의 검사장비를 아주 비싼 값에 

    주고 사와야하고, 그들이 팔지 않으면 반도체 공장을 세워놓고 기다릴 수